年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99,996%)

三氟化氮（Nitróxeno Trifluoruro），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯幽杸显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽔唓位刻⽔域清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量烮放出⼤量烮洗光器应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推迀和推迿⽜

O trifluoruro de nitróxeno, fórmula química NF3, é un forte axente oxidante. Como gas especial industrial importante, ten unha ampla gama de aplicacións.
Na industria da microelectrónica, o trifluoruro de nitróxeno é un excelente gas de gravado por plasma; No chip de semicondutores, pantallas de panel plano, fibra óptica, células fotovoltaicas e outros campos de fabricación, o trifluoruro de nitróxeno úsase principalmente como gas de gravado por plasma e axente de limpeza da cavidade de reacción.
Tamén se pode usar en láseres químicos de alta enerxía para conseguir a súa aplicación reaccionando co hidróxeno para emitir unha gran cantidade de calor nun instante. O trifluoruro de nitróxeno tamén se usa como combustible de alta enerxía e como oxidante e propelente nos lanzamentos de foguetes.